多功能卧式炉

FORTA 系列 PLX 200/150

FORTA 系列 PLX 200/150

多功能卧式炉

本产品主要应用于6/8英寸集成电路及化合物半导体领域的多工艺合炉需求,是一款高性能卧式半导体热处理设备。设备采用模块化设计,可兼容氧化、退火、合金及LPCVD等多种工艺,具备良好的温度均匀性、工艺稳定性及生产效率。系统主要由工艺腔体、传输系统、气体分配系统、尾气处理系统及高精度温度控制系统组成,可根据客户不同工艺及产能需求进行灵活配置,为半导体制造提供稳定可靠的热处理工艺平台。
晶圆尺寸
6英寸 / 8英寸
适用材料
Si / SiC
适用工艺
氧化、退火、合金、LPCVD等

系统概述

本产品主要应用于6/8英寸集成电路及化合物半导体领域的多工艺合炉需求,是一款高性能卧式半导体热处理设备。设备采用模块化设计,可兼容氧化、退火、合金及LPCVD等多种工艺,具备良好的温度均匀性、工艺稳定性及生产效率。系统主要由工艺腔体、传输系统、气体分配系统、尾气处理系统及高精度温度控制系统组成,可根据客户不同工艺及产能需求进行灵活配置,为半导体制造提供稳定可靠的热处理工艺平台。

产品特色

① 高产能设计: 采用高效卧式炉结构及优化的工艺流程设计,支持多片晶圆连续处理,有效提升设备产出效率,满足规模化生产需求。
② 优异的工艺稳定性: 通过精准的温度控制及稳定的气体输送系统,保障工艺过程的一致性与重复性,为产品良率提供可靠支撑。
③ 良好的可维护性: 采用模块化系统设计,关键部件布局合理,便于日常维护与检修,有助于提升设备长期运行效率。
④ 高效自动化运行: 配备完善的自动化控制系统,实现工艺参数精准控制及设备运行状态实时监测,提升生产过程的智能化水平。

产品特色

高产能设计

采用高效卧式炉结构及优化的工艺流程设计,支持多片晶圆连续处理,有效提升设备产出效率,满足规模化生产需求。

优异的工艺稳定性

通过精准的温度控制及稳定的气体输送系统,保障工艺过程的一致性与重复性,为产品良率提供可靠支撑。

良好的可维护性

采用模块化系统设计,关键部件布局合理,便于日常维护与检修,有助于提升设备长期运行效率。

高效自动化运行

配备完善的自动化控制系统,实现工艺参数精准控制及设备运行状态实时监测,提升生产过程的智能化水平。

适用领域

MEMS微机电系统
先进封装/
晶圆级封装
化合物半导体功率器件(SiC MOSFET/SBD等)
功率器件
(IGBT/MOSFET/
SiC/GaN)
光电芯片/
光电子与图像传感器
集成电路
科研

热门检索词: